单室有机无机热蒸发
文章来源：admin 更新时间：2022-02-07
单室有机无机热蒸发
主要用途：
系统用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等等，可用于科研单位进行新材料新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。
系统组成:
该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa
恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
真空室：Ф450 x500mm圆筒型真空室 ，真空室可放置1-8个高温或低温束源炉；
蒸发温度：加热温度：室温～800℃；
蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）；
工作架类型及尺寸：样品托盘直径Φ300mm，其上可放多个直径20mm的小样品；样品托盘具有自转功能，转速在0～20 转/分钟，转速可调；样品托盘可摆角，角度在0～30度可调；
烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃）
电阻蒸发源：电压5V，10V，功率2.5KW，水冷电极1~8对
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999µ
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统及手套箱
计算机系统主要功能：实现真空泵控制功能、机械泵与低温泵联锁控制功能、基片自转速度控制功能。
辽公网安备 21010302000036号