多弧离子镀
文章来源：admin 更新时间：2022-02-07
多弧离子镀膜系统
主要用途：
该类设备主要用于在柱状钻头、铣刀等刀具上镀制薄膜而特殊设计的一种专用设备。镀制出来的刀具有附着力强、耐磨、摩擦系数小等特点，在科研与工业生产领域中有着广泛的应用前景。
系统组成:
设备主要由镀膜室、样品转盘组件、前门组件、加热体组件、安装机架、Ф100mm多弧源、条形离子源、节流阀组件及控制系统等组成。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa
恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
真空室圆筒型结构Φ1500×1200(mm)，双层夹壁水冷结构，电动开启，样品可升降、旋转
采布置12个电弧源，靶直径100mm样品基片: 负偏压 -200V，样品的温度从室温至400℃连续可调可控。用4路质量流量计进气。
辽公网安备 21010302000036号