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双枪电子束BitGet最新app下载

文章来源:admin 更新时间:2022-02-08

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DZS800型电子束镀膜设备
  主要用途:
  用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,批量生产型。
  系统组成:
  系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、计算机系统及安装机台等部分组成。
  技术指标:
  极限真空度:≤6.7×10 Pa
  恢复真空时间:从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
  系统漏率:6. 7×10-7Pa.L/S;
  真空室:真空室1200x9000 x800mm采用U型箱体前开门,后置抽气系统
  e型电子枪:阳极电压:10kv(2套)
  坩埚:水冷式坩埚,24穴设计,每个容量11ml
  功率:0-10KW可调
  电阻蒸发源(可选)
  基片尺寸:可放置4″基片一次更换20个样品
  样品台:基片可连续回转,转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离350mm加热最高温度 400°C±1°C
  气路系统:质量流量控制器1路
  石英晶振膜厚控制仪:监测膜厚显示范围:0-99μ9999Å

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