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CVD

文章来源:pengchengzk 更新时间:2016-06-12

CVD

  CVD膜系统
  主要用途:
  本热丝CVD为实验室制备金刚石薄膜设备。
  系统组成:
  本设备采用热丝化学气相沉积方法,通过冲入反应气体及乙醇在工件表面沉积金刚石薄膜。
  技术指标:
  极限真空度:≤6.7×10 Pa
  恢复真空时间:从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
  系统漏率:6. 7×10-7Pa.L/S;
  样品最大Φ100mm,可升降、旋转
  真空室大小Φ600×600(mm),双层夹壁水冷结构,电动开启,
  采用4路质量流量计进气
  加热采用热丝架结构,热丝架水冷,两根灯丝之间的距离可调

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