产品展示

联系我们

bitget wallet

地址:沈阳市沈河区凌云街35号

传真:024-88427871

销售热线:13898863716 13940380370

产品展示

当前位置:首页>>产品展示>>磁控溅射镀膜系列>>光纤样品磁控镀膜系统

CK300三靶磁控溅射(光纤样品)

文章来源:admin 更新时间:2022-02-07

CK300三靶磁控溅射(光纤样品)

设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。配有阳极层离子源进行清洗和辅助沉积,同时设备具有反溅射清洗功能,以提高膜的质量和牢固度。
设备组成
系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(三个靶)、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
技术指标:
1、采用单室D型前开门结构,换样进样操作方便,不锈钢材料和真空材料。
2、极限真空度:溅射室极限真空度≤5×10-5Pa;工作真空度可达到:5×10-4Pa; 压升率:停泵关机12小时后真空度≤10Pa; 系统漏率:5×10-7PaL/S;
3、磁控靶及电源:3英寸磁控靶3个,其中2个为标准磁场磁控靶,1个为强磁场磁控靶。磁控靶即可直流也可射频;RF电源3台,功率600w,13.56MHz,自动匹配;靶与样品之间的距离为40mm~120mm
4、样品具有反溅射功能,可对样品进行镀前预清洗。
5、设备配有阳极层离子源,可对样品进行清洗,同时,可在镀膜时,对样品进行辅助沉积。
6、工艺气体:工作气路2路:独立质量流量控制器2路,用于反应气体进气和氩气气路,采用MKS质量流量计;具有混气功能;腔内气压可测可调可控。
7、溅射室烘烤照明:采用红外加热除气方式,烘烤温度:150℃。
8、真空室内有衬板,避免溅射材料直接溅射到溅射室真空壁上。
9、设备具有断水断电连锁保护功能,有防止误操作保护功能。

上一条:暂无记录

下一条:暂无记录

地址:沈阳市沈河区凌云街35号电话:024-88427871销售热线:13898863716 13940380370

版权所有:bitget wallet技术支持:盘古网络[盘古建站]ICP备案编号:辽ICP备11019824号-2

 辽公网安备 21010302000036号

网络经济主体信息