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300C有机无机联合蒸发

文章来源:admin 更新时间:2022-02-07

300C有机无机联合蒸发

主要用途:   
用于制备导电薄膜,半导体薄膜,铁电薄膜,光学薄膜等。   
系统组成:   
该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。   
技术指标:   
极限真空度:≤6.7×10 Pa   
恢复真空时间:从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min   
系统漏率:6. 7×10-7Pa.L/S;   
真空室:Ф400 x400mm圆筒型真空室 ,   
蒸发源:1-4个,采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。  
蒸发温度:加热温度:室温~1800℃;   
蒸发舟在距中心100~160mm的圆周上;蒸发舟可上下升降,调节幅度0~150mm(样品中心与坩埚距离150~300mm);   
工作架类型及尺寸:样品托盘直径Φ300mm,其上可放多个直径20mm的小样品;样品托盘具有自转功能,转速在0~20 转/分钟,转速可调;样品托盘可摆角,角度在0~30度可调;   
烘烤温度:400℃数显自动热偶控温(高温炉盘,数显自动热偶控温可加热到700℃)   
电阻蒸发源:电压5V,10V,功率2.5KW,水冷电极1~4对   石英晶振膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999Å

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