300C有机无机联合蒸发

文章来源：admin 更新时间：2022-02-07

主要用途： 　　
用于制备导电薄膜，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜等。 　　
系统组成: 　　
该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。 　　
技术指标： 　　
极限真空度：≤6.7×10 Pa 　　
恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 　　
系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 　　
真空室：Ф400 x400mm圆筒型真空室 ， 　　
蒸发源：1-4个，采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。 　
蒸发温度：加热温度：室温～1800℃； 　　
蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）； 　　
工作架类型及尺寸：样品托盘直径Φ300mm，其上可放多个直径20mm的小样品；样品托盘具有自转功能，转速在0～20 转/分钟，转速可调；样品托盘可摆角，角度在0～30度可调； 　　
烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃） 　　
电阻蒸发源：电压5V，10V，功率2.5KW，水冷电极1~4对 　　石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999Å